据美国国家标准与技术研究院（NIST）网站2月16日消息，NIST向专注于开发新材料、实现新型计算和存储技术的NEW LIMITS研究联盟开展资助。相关工作由普渡大学领衔，合作方包括德克萨斯大学达拉斯分校、宾州州立大学、密歇根大学和斯坦福大学等。该联盟将开发新的路径，以创造、综合利用和评估用于新技术以及混合设计（与当前技术兼容）的新材料，重点关注以下五大关键研究方向。
（1）新型计算范式。新的计算和存储范式、操作理论、超越传统CMOS器件、超越冯诺依曼体系结构、超越传统的信息处理和传感等。
（2）器件、互连与材料研究。实现新型计算与存储范例，涉及Ⅲ-Ⅴ族、低维（0-2维）、多铁性、铁电、磁性、相变、金属绝缘体转变等材料的系统与界面研究，需要有新的原子级精确沉积和去除方法。
（3）先进制造与纳米制造。新型材料和器件需要先进的制造技术，如原子级精密放置、沉积、图案化和蚀刻等。加工、界面和缺陷的控制也是至关重要的，并且需要具有纳米分辨率的先进测量工具。新型网络物理系统对封装技术提出新的需求。
（4）创新型计量与表征。支持基本设备和材料研究的创新计量和表征，以及测试平台和标准，以便从设备级到系统级对性能进行基准测试，实现高空间分辨率、高通量、原位和实际操作。
（5）计算模型。支持从新兴设备与材料到新系统的基础研究，包括从头计算和基于物理的有效模型（为材料发现和制造过程模拟功能提供预测处理）、电子设计自动化工具（可实现完整系统，包括逻辑/物理设计、仿真及其支持的新型计算范式的验证）等。 （万勇）
